є джерелом ультрафіолетового випромінювання і призначені для застосування в різних технологічних процесах: для експонування фоторезисту і фотолаков в робототехнічних комплексах, для експонування фоторезистів при виробництві друкованих плат, для експонування фотоформ у поліграфії.